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(基板／両面用) USXD-1/１H
クリーンイオナイザー製品
非接触式超音波クリーナー
(基板／両面用) USXD-1/１H
省スペース・省エネ型の超音波基板クリーナー（両面用）
最適なエアーバランスで運用することにより極薄基板の両面クリーニングが可能ですコンパクト設計によるクリーニングヘッドのスリム化を実現し、
エアー流量制御によりブロワユニットも省電力・軽量化も実現しました
エアー圧、音圧(dB)を高めることで、さらに除塵効果を極めた高圧タイプ（USXD-1H）もご用意しています。
製品概要
FPD市場での導入例
小型基板から第10世代液晶ガラスまで対応する非接触式両面ドライクリーナーです。 フラットパネルディスプレイ (液晶、有機EL) のセル・CF工程で付着したパーティクル等をインラインにて表裏同時にクリーニングが可能です。 コロ・コンベア搬送されるFPDやOLED、太陽光発電パネルの両面クリーニングに最適です。
製品ターゲット
液晶パネル、有機EL、タッチパネル、バックライト、太陽電池、プリント基板、etc
採用工程
成膜、スパッタ、レジスト塗布、露光、ドライエッジング、光配光剤塗布、ラビング、シール材塗布、偏光板貼付、ガラス貼付、封止、蒸着、etc
除塵性能
1.6μm以上の微粒子を100%除去可能です
実験条件
| 実験装置 | 弊社内クリーンルーム（クラス100）内搬送装置 |
|---|---|
| 除塵対象 | 液晶用ガラス基板（370×470×0.7mm Ｃｒ膜） |
| 散布粒子 | 液晶用スペーサー（ミクロパール1.6・3・5・10μm）、ガラス粉塵 |
| ヘッド吐出圧力 | 13kPa |
| 基板ギャップ | 1.5mm |
| 搬送速度 | 100・200・300mm/sec |
| 評価機器 | CCDカメラ |
N2環境対応
液晶製造ラインで実績のあるドライ洗浄技術を窒素環境下でも実現しました。密閉チャンバー内の窒素環境下で有機蒸着されたガラス表面の異物を除去することが可能です。チャンバー内の窒素環境を維持した状態でクリーナー処理を行うための、新たに設計されたブロワ／フィルターユニット、温度コントロールシステムをご提供致します。（特許取得済）
仕様
製品の詳細仕様につきましては弊社営業までお問合せください。
360°view
クリーニングヘッド
画面の上でクリックしたまま、
左右にドラッグすることで
画像を回転することができます。
Swipe on the image or drag it with the mouse
