最新の露光技術であるEUV露光に用いられるEUV PODのための全自動洗浄装置(特許取得済)です。Inner POD、Outer PODの分解/再組立はもちろん、各PODは個別の専用CHで洗浄/乾燥されます。
完全無人稼動も可能です。
ナノレベルのパーティクル除去を半導体デバイス容器洗浄装置メーカーとして30年間構築した独自の洗浄/乾燥技術で実現します。
ヒューグルエレクトロニクス株式会社
本社:〒102-0072 東京都千代田区飯田橋4-5-7
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